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物理气相沉积是利用生成的金属气相与不同的气体反应来生成薄膜涂层。现今大多数常见的PVD方法为电弧沉积和溅射。两种方法都需要在高度真空的涂层室内进行

工艺温度
PVD典型的工艺温度在250°C到450°C,某些情况下,PVD涂层也可在70°C 以下或600°C以上沉积,这取决于不同的应用或涂层。

典型的涂层部件
PVD工艺可在大多数的工具及零件上沉积涂层,包括切削及成型刀具,磨损部件,医疗器械和装饰品。基体材料可以从钢件和硬质合金到预喷涂的塑料。

典型的沉积涂层
典型的沉积涂层包括TiN, AlTiN, TiAlN, CrN, CrCN, TiCN 和 ZrN,更多复杂的涂层包括TiAlCrYN, TiAlSiN 或 W-C:H / DLC复合涂层。

涂层可以是单一涂层,多层涂层,梯级涂层,还可通过晶体方位和纳米复合结构来改善涂层结构,以获得希望的硬度,弹性和结合力等,最终的涂层取决于应用的需要。

涂层厚度一般在2-5μ,某些情况下涂层厚度可以薄到0.5μ或厚到15μ或更厚。
生产周期取决于上料的密度,涂层种类和涂层厚度 。一般在3-6个小时。

PVD工艺的优点
基体材料和涂层材料的多样性,组合多样性,较短的生产周期,高的生产率 。
低温到中温的涂层温度可确保零件的几何形状和公差,对环境的影响较小。

瑞士IONBOND PVD设备能提供不同的型号和尺寸来满足你的应用和生产需要,并能根据您的需要定制专用设备。
IONBOND PVD设备的特点:
圆形靶技术(直径100mm)
大矩形靶技术(790x240mm)
优良的工艺控制和涂层均匀性
低运行成本
安全,可靠,方便使用

 

典型的涂层部件PVD工艺可在大多数的工具及零件上沉积涂层,包括切削及成型刀具,磨损部件,医疗器械和装饰品,机床及汽车零部件,航空部件。 基体材料可以从钢件和硬质合金到预喷涂的塑料。

典型的沉积涂层典型的沉积涂层包括TiN, AlTiN, TiAlN, CrN, CrCN, TiCN和ZrN,更多复杂的涂层包括TiAlCrYN,TiAlSiN或 W-C:H / DLC复合涂层。

 

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