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爱恩邦德 PACVD 650是专门针对在广泛的基材上进行功能性和装饰性类金刚石(DLC)涂层的沉积而设计的工业涂层系统。PVD溅射和PACVD工艺相结合,可以拓宽DLC的应用范围,根据客户的应用要求量身定做涂层类型。

1Ionbond PACVD650特点:

  2个等离子激发源(射频,直/直流脉冲)
  安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射。
  带有一个前门的六角形真空室,保证一个洁净的环境。
  干式真空系统设计安装在一个单独的空间,处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体
  基材和导电与非导电涂层及组合高效原位清洗的离子激发系统
  可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性,以最小压强进行电离作用
  百叶窗减少在PACVD进程的磁控管靶材中毒
  单独的PACVD工艺中不强制转动的时候,一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积。
  特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度
  泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节,保证了涂层系统的高可靠性。
  iFIX基础的控制系统,易于批次、配方和报警处理。
  所有数据的采集,保证最佳的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到最佳检查方案。在批次运行过程中,操作者也可复制更改或新建工艺。
  用户可自行设置进入控制系统的权限,以保证系统的质量和安全性。

 

Ionbond PACVD650系统提供成套现成操作,一整套标准配方,允许沉积标准的碳基涂层(DLC)
纯粹的a-C:H沉积需不要夹层取决于应用的化学和机械的要求。
单一或多层的沉积加上碳基顶层。
在经过挑选的基材上进行DLC涂层沉积,包括各种钢材碳化物,轻金属,陶瓷和塑料类等材质

 

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